<ins id="nnjdx"><span id="nnjdx"></span></ins>
<var id="nnjdx"></var>
<var id="nnjdx"></var>
<var id="nnjdx"></var>
<cite id="nnjdx"><video id="nnjdx"></video></cite>
<var id="nnjdx"></var><var id="nnjdx"></var>
<var id="nnjdx"><strike id="nnjdx"></strike></var>
<menuitem id="nnjdx"><video id="nnjdx"><thead id="nnjdx"></thead></video></menuitem>
<cite id="nnjdx"></cite>
<thead id="nnjdx"><span id="nnjdx"><thead id="nnjdx"></thead></span></thead>
<del id="nnjdx"><noframes id="nnjdx">
<var id="nnjdx"></var>
<cite id="nnjdx"></cite>
<var id="nnjdx"><dl id="nnjdx"></dl></var>
<cite id="nnjdx"><video id="nnjdx"></video></cite>
<cite id="nnjdx"><video id="nnjdx"></video></cite>
<cite id="nnjdx"><video id="nnjdx"><thead id="nnjdx"></thead></video></cite>
<cite id="nnjdx"><video id="nnjdx"><thead id="nnjdx"></thead></video></cite>
中國粉體工業 · 2020年第5期47-48,共2頁

我國半導體抗光腐蝕研究取得新進展

摘要:近日從內蒙古大學獲悉,該校王蕾研究員帶領的科研團隊在半導體抗光腐蝕研究方面取得新進展,得到國家自然科學基金等多個項目的認可支持。“鈍化層助力BiVO4抗光腐蝕研究”的相關成果已于近日在國際化學期刊《德國應用化學》發表,將有助于提高太陽能制氫的光電轉換效率。

關鍵詞:應用化學BIVO4光腐蝕光電轉換效率國家自然科學基金太陽能制氫化學期刊科研團隊

分類號: O64[理學—物理化學]

注:學術社僅提供期刊論文索引,查看正文請前往相應的收錄平臺查閱
相關文章
伊伊爱官方网站